含量检测精度<1%
外形尺寸576(W)*495(D)*545(H)
型号Thick800A
电源电压220V±5V
测量范围0.005um
镀层膜厚是电镀产品的重要技术指标,关系到产品的质量以及生产成本。 Thick800A镀层测厚仪是集多年的经验,研发用于镀层行业的一款膜厚测试仪器,配备平台,可全自动软件操作,并进行多点测试,检测结果更加。
按照标准性技术档GB/Z 20288-2006《电子电器产品中有害物质检测样品拆分通用要求》中规定:表面处理层应尽量与本体分离(镀层),对于确定无法分离的镀层,可对表面处理层进行初筛(使用X射线荧光光谱仪(XRF)手段),筛选合格则不用拆分;筛选不合格,可使用非机械方法分离(如使用能溶解表面处理层而不能溶解本体材料的化学溶剂溶剂提取额)。对镀层样品进行RoHS测试时,先用EDX1800B仪器直接进行镀层RoHS测试,如果合格则样品符合RoHS标准。如果镀层不合格将进行下步拆分测试。
满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求
φ0.1的小孔准直器可以满足微小测试点的需求
高精度平台可定位测试点,重复定位精度小于0.005
采用高度定位激光,可自动定位测试高度
定位激光确定定位光斑,确保测试点与光斑对齐
鼠标可控制平台,鼠标点击的位置就是被测点
高分辨率探头使分析结果更加
良好的射线屏蔽作用
测试口高度敏感性传感器保护
元素分析范围从硫(S)到铀(U)。
同时可以分析30种以上元素,五层镀层。
分析含量一般为ppm到99.9% 。
镀层厚度一般在50μm以内(每种材料有所不同)
任意多个可选择的分析和识别模型。
相互的基体效应校正模型。
多变量非线性回收程序
度适应范围为15℃至30℃。
电源: 交流220V±5V, 建议配置交流净化稳压电源。
外观尺寸: 576(W)×495(D)×545(H)
样品室尺寸:500(W)×350(D)×140(H)
重量:90kg
开放式样品腔。
精密二维样品平台,探测器和X光管上下可动,实现三维。
双激光定位装置。
铅玻璃屏蔽罩。
Si-Pin探测器。
信号检测电子电路。
高低压电源。
X光管。
高度传感器
保护传感器
计算机及喷墨打印机
膜厚仪也叫X射线测厚仪,它的原理是物质经X射线或粒子射线照射后,由于吸收多余的能量而变成不稳定的状态。从不稳定状态要回到稳定状态,此物质必需将多余的能量释放出来,而此时是以荧光或光的形态被释放出来。荧光X射线镀层厚度测量仪或成分分析仪的原理就是测量这被释放出来的荧光的能量及强度,来进行定性和定量分析。
金属镀层膜厚仪Thick 800A镀层测厚仪是针对镀层厚度测量而精心设计的一款新型仪器。主要应用于:金属镀层的厚度测量、电镀液和镀层含量的测定;黄金、铂、银等贵金属和各种饰的含量检测。
性能优势
1.精密的三维平台
2.的样品观测系统
3.的图像识别
4.轻松实现深槽样品的检测
5.四种微孔聚焦准直器,自动切换
6.双重保护措施,实现无缝防撞
7.采用大面积高分辨率探测器,有效降低检出限,提高测试精度
全自动智能控制方式,一键式操作!
开机自动自检、复位;
开盖自动退出样品台,升起Z轴测试平台,方便放样;
关盖推进样品台,下降Z轴测试平台并自动完成对焦;
直接点击全景或局部景图像选取测试点;
点击软件界面测试按钮,自动完成测试并显示结果。
所谓膜层厚度是指基体上的金属或非金属覆盖层的厚度,例如PCB板工艺中的Cu/Ni/Au层,合金上的Ni/Cr覆盖层,塑料件上的金属膜层,金属上的油漆涂层等等。
测膜厚度,此方法适用于测量厚度>1μm的金属膜层,可同时测量多层;被测样品需要经垂直于待测膜层取样进行金相制样,再在金相显微镜下观察并拍照测量待测膜层厚度。
金属厚度膜厚仪利用磁性法都要求涂层为非磁性涂层,尚未发现有利用该方法的涂层测厚产品是针对磁性涂层的。在国家标准GB/T 4957-2003《非磁性金属基体上非导电覆盖层厚度测量涡流方法》(与国际标准IS02360-2003对应)中,对涡流测厚仪的标准,操作程序和影响测量精度的因素及其注意事项作了详细的阐述。其中有关影响测量精度因素的条款,应视作涡流涂层测厚仪开发应用必须遵循的性文件。
仪器及其校准和操作应使覆盖层厚度能测准到真实厚度的10%以内。如果测量小于 5μm的覆盖层厚度,推荐取几次读数的平均值。覆盖层厚度小于 3μm时,可能达不到这样的准确度。
X射线的能量穿过金属镀层的同时,金属元素其电子会反射其稳定的能量波谱。通过这样的原理,设计出膜厚测试仪,又称金属镀层厚度测量仪,其不同之处为其既是薄膜厚度测试仪,也是薄膜表层金属元素分析仪,因响应全球环保工艺准则,故目前市场上普遍使用的都是无损薄膜X射线荧光镀层测厚仪。
台式的荧光X射线膜厚测试仪,是通过一次X射线穿透金属元素样品时所产生低能量的光子,俗称为二次荧光,,再通过计算二次荧光的能量来计算厚度值
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